Documents dont l'auteur est "Ohta, T."

O

Ohta, T., Cicoira, F., Doppelt, P., Beitone, L., & Hoffmann, P. (2001). Self-reducible CuII source reagents for the CVD of copper. Chemical Vapor Deposition, 7(1), 28-31. Lien externe

Ohta, T., Cicoira, F., Doppelt, P., Beitone, L., & Hoffmann, P. (2001). Static vapor pressure measurement of low volatility precursors for molecular vapor deposition below ambient temperature. Chemical Vapor Deposition, 7(1), 33-37. Lien externe

S

Seuret, P., Cicoira, F., Ohta, T., Doppelt, P., Hoffmann, P., Weber, J., & Wesolowski, T. A. (2003). An experimental and theoretical study of [RhCl(PF3)2]2 fragmentation. Physical Chemistry Chemical Physics, 5(2), 268-274. Lien externe