Static vapor pressure measurement of low volatility precursors for molecular vapor deposition below ambient temperature

Article de revue (2001)

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Titre de la revue :

Chemical Vapor Deposition ( vol. 7 , no 1 )

Maison d'édition:

Wiley

DOI:

URL officielle:

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:27167

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:21

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:03

Citer en APA 7:

Ohta, T., Cicoira, F., Doppelt, P., Beitone, L., & Hoffmann, P. (2001). Static vapor pressure measurement of low volatility precursors for molecular vapor deposition below ambient temperature. Chemical Vapor Deposition, 7(1), 33-37. https://doi.org/10.1002/1521-3862%28200101%297%3a1%3c33%3a%3aaid-cvde33%3e3.0.co%3b2-y

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