Study of TiO₂ film growth mechanisms in low-pressure plasma by in situ real-time spectroscopic ellipsometry

A. Amassian, Patrick Desjardins, Ludvik Martinu

Article de revue (2004)

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Département:
Département de génie physique
Unité de recherche:
GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
Adresse URL de PolyPublie:
https://publications.polymtl.ca/25351/
Titre de la revue :
Thin Solid Films ( vol. 447-448 , no 3 )
Maison d'édition:
Elsevier
DOI:
10.1016/j.tsf.2003.09.019
URL officielle:
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2003.09.019
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:25351
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:00
Citer en APA 7:
Amassian, A., Desjardins, P., & Martinu, L. (2004). Study of TiO₂ film growth mechanisms in low-pressure plasma by in situ real-time spectroscopic ellipsometry. Thin Solid Films, 447-448(3), 40-45. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2003.09.019

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