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Study of TiO₂ film growth mechanisms in low-pressure plasma by in situ real-time spectroscopic ellipsometry

A. Amassian, Patrick Desjardins et Ludvik Martinu

Article de revue (2004)

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Département: Département de génie physique
Centre de recherche: GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/25351/
Titre de la revue: Thin Solid Films (vol. 447-448, no 3)
Maison d'édition: Elsevier
DOI: 10.1016/j.tsf.2003.09.019
URL officielle: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2003.09.019
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:19
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:05
Citer en APA 7: Amassian, A., Desjardins, P., & Martinu, L. (2004). Study of TiO₂ film growth mechanisms in low-pressure plasma by in situ real-time spectroscopic ellipsometry. Thin Solid Films, 447-448(3), 40-45. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2003.09.019

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