Study of TiO₂ film growth mechanisms in low-pressure plasma by in situ real-time spectroscopic ellipsometry

A. Amassian, Patrick Desjardins et Ludvik Martinu

Article de revue (2004)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/25351/
Titre de la revue:	Thin Solid Films (vol. 447-448, no 3)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/j.tsf.2003.09.019
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2003.09.019
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:	08 avr. 2025 02:14

Citer en APA 7:	Amassian, A., Desjardins, P., & Martinu, L. (2004). Study of TiO₂ film growth mechanisms in low-pressure plasma by in situ real-time spectroscopic ellipsometry. Thin Solid Films, 447-448(3), 40-45. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2003.09.019
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