Interface engineering during plasma-enhances chemical vapor deposition of porous/dense SiN₁.₃ optical multilayers

Aram Amassian, R. Verhnes, Jolanta-Ewa Sapieha, Patrick Desjardins, Ludvik Martinu

Article de revue (2004)

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Département:
Département de génie physique
Unité de recherche:
RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe
Adresse URL de PolyPublie:
https://publications.polymtl.ca/25350/
Titre de la revue :
Thin Solid Films ( vol. 469-470 )
Maison d'édition:
Elsevier
DOI:
10.1016/j.tsf.2004.07.072
URL officielle:
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.07.072
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:25350
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:00
Citer en APA 7:
Amassian, A., Verhnes, R., Sapieha, J.-E., Desjardins, P., & Martinu, L. (2004). Interface engineering during plasma-enhances chemical vapor deposition of porous/dense SiN₁.₃ optical multilayers. Thin Solid Films, 469-470, 47-53. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.07.072

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