Interface engineering during plasma-enhances chemical vapor deposition of porous/dense SiN1.3 optical multilayers

A. Amassian, R. Verhnes, Jolanta-Ewa Sapieha, Patrick Desjardins et Ludvik Martinu

Article de revue (2004)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/25350/
Titre de la revue:	Thin Solid Films (vol. 469-470)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/j.tsf.2004.07.072
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.07.072
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:11

Citer en APA 7:	Amassian, A., Verhnes, R., Sapieha, J.-E., Desjardins, P., & Martinu, L. (2004). Interface engineering during plasma-enhances chemical vapor deposition of porous/dense SiN1.3 optical multilayers. Thin Solid Films, 469-470, 47-53. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.07.072
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