Aram Amassian, R. Verhnes, Jolanta-Ewa Sapieha, Patrick Desjardins
et Ludvik Martinu
Article de revue (2004)
Un lien externe est disponible pour ce document| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| Centre de recherche: | RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/25350/ |
| Titre de la revue: | Thin Solid Films (vol. 469-470) |
| Maison d'édition: | Elsevier |
| DOI: | 10.1016/j.tsf.2004.07.072 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.07.072 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:19 |
| Dernière modification: | 25 avr. 2025 16:40 |
| Citer en APA 7: | Amassian, A., Verhnes, R., Sapieha, J.-E., Desjardins, P., & Martinu, L. (2004). Interface engineering during plasma-enhances chemical vapor deposition of porous/dense SiN₁.₃ optical multilayers. Thin Solid Films, 469-470, 47-53. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.07.072 |
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