A. Amassian, R. Verhnes, Jolanta-Ewa Sapieha, Patrick Desjardins et Ludvik Martinu
Article de revue (2004)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/25350/ |
Titre de la revue: | Thin Solid Films (vol. 469-470) |
Maison d'édition: | Elsevier |
DOI: | 10.1016/j.tsf.2004.07.072 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.07.072 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:19 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:05 |
Citer en APA 7: | Amassian, A., Verhnes, R., Sapieha, J.-E., Desjardins, P., & Martinu, L. (2004). Interface engineering during plasma-enhances chemical vapor deposition of porous/dense SiN1.3 optical multilayers. Thin Solid Films, 469-470, 47-53. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.07.072 |
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