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Interface engineering during plasma-enhances chemical vapor deposition of porous/dense SiN1.3 optical multilayers

A. Amassian, R. Verhnes, Jolanta-Ewa Sapieha, Patrick Desjardins et Ludvik Martinu

Article de revue (2004)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/25350/
Titre de la revue: Thin Solid Films (vol. 469-470)
Maison d'édition: Elsevier
DOI: 10.1016/j.tsf.2004.07.072
URL officielle: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.07.072
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:19
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:05
Citer en APA 7: Amassian, A., Verhnes, R., Sapieha, J.-E., Desjardins, P., & Martinu, L. (2004). Interface engineering during plasma-enhances chemical vapor deposition of porous/dense SiN1.3 optical multilayers. Thin Solid Films, 469-470, 47-53. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.07.072

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