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Comparative study of cu-precursors for 3D focused electron beam induced deposition

A. Luisier, I. Utke, T. Bret, Fabio Cicoira, R. Hauert, S. W. Rhee, P. Doppelt et P. Hoffmann

Article de revue (2005)

Document publié alors que les auteurs ou autrices n'étaient pas affiliés à Polytechnique Montréal

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URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/23908/
Titre de la revue: Journal of The Electrochemical Society (vol. 152, no 9)
Maison d'édition: Electrochemical Society
DOI: 10.1149/1.1779335
URL officielle: https://doi.org/10.1149/1.1779335
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:18
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:09
Citer en APA 7: Luisier, A., Utke, I., Bret, T., Cicoira, F., Hauert, R., Rhee, S. W., Doppelt, P., & Hoffmann, P. (2005). Comparative study of cu-precursors for 3D focused electron beam induced deposition. Journal of The Electrochemical Society, 152(9), C590-C593. https://doi.org/10.1149/1.1779335

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