Comparative study of cu-precursors for 3D focused electron beam induced deposition

Luisier, A.; Utke, I.; Bret, T.; Cicoira, Fabio; Hauert, R.; Rhee, S. W.; Doppelt, P.; Hoffmann, P.; Luisier, A.; Utke, I.; Bret, T.; Cicoira, Fabio; Hauert, R.; Rhee, S. W.; Doppelt, P.; Hoffmann, P.

Comparative study of cu-precursors for 3D focused electron beam induced deposition

A. Luisier, I. Utke, T. Bret, Fabio Cicoira , R. Hauert, S. W. Rhee, P. Doppelt, P. Hoffmann

Article de revue (2005)

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Titre de la revue :

Journal of The Electrochemical Society ( vol. 152 , no 9 )

Maison d'édition:

Electrochemical Society

DOI:

10.1149/1.1779335

URL officielle:

https://doi.org/10.1149/1.1779335

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:23908

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:18

Dernière modification:

14 oct. 2026 12:57

Citer en APA 7:

Luisier, A., Utke, I., Bret, T., Cicoira, F., Hauert, R., Rhee, S. W., Doppelt, P., & Hoffmann, P. (2005). Comparative study of cu-precursors for 3D focused electron beam induced deposition. Journal of The Electrochemical Society, 152(9), C590-C593. https://doi.org/10.1149/1.1779335

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