A. Luisier, I. Utke, T. Bret, Fabio Cicoira
, R. Hauert, S. W. Rhee, P. Doppelt et P. Hoffmann
Article de revue (2005)
Document publié alors que les auteurs ou autrices n'étaient pas affiliés à Polytechnique Montréal
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| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/23908/ |
|---|---|
| Titre de la revue: | Journal of The Electrochemical Society (vol. 152, no 9) |
| Maison d'édition: | Electrochemical Society |
| DOI: | 10.1149/1.1779335 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1149/1.1779335 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:18 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:03 |
| Citer en APA 7: | Luisier, A., Utke, I., Bret, T., Cicoira, F., Hauert, R., Rhee, S. W., Doppelt, P., & Hoffmann, P. (2005). Comparative study of cu-precursors for 3D focused electron beam induced deposition. Journal of The Electrochemical Society, 152(9), C590-C593. https://doi.org/10.1149/1.1779335 |
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