D.-Q. Yang, Suzie Poulin, Ludvik Martinu
, Jolanta-Ewa Sapieha, O. Zabeida et Edward Sacher
Article de revue (2005)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| Centre de recherche: | RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/23530/ |
| Titre de la revue: | Applied Surface Science (vol. 242, no 3-4) |
| Maison d'édition: | Elsevier |
| DOI: | 10.1016/j.apsusc.2004.09.077 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.09.077 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:19 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:03 |
| Citer en APA 7: | Yang, D.-Q., Poulin, S., Martinu, L., Sapieha, J.-E., Zabeida, O., & Sacher, E. (2005). Microscale Chemical and Electrostatic Surface Patterning of Dow Cyclotene by N₂ Plasma. Applied Surface Science, 242(3-4), 419-427. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.09.077 |
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