Microscale Chemical and Electrostatic Surface Patterning of Dow Cyclotene by N₂ Plasma

D.-Q. Yang, Suzie Poulin, Ludvik Martinu, Jolanta-Ewa Sapieha, Oleg Zabeida, Edward Sacher

Article de revue (2005)

Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
Applied Surface Science ( vol. 242 , no 3-4 )
Maison d'édition:
Elsevier
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:23530
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:
14 oct. 2026 12:57
Citer en APA 7:
Yang, D.-Q., Poulin, S., Martinu, L., Sapieha, J.-E., Zabeida, O., & Sacher, E. (2005). Microscale Chemical and Electrostatic Surface Patterning of Dow Cyclotene by N₂ Plasma. Applied Surface Science, 242(3-4), 419-427. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.09.077

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document
Afficher document