Microscale Chemical and Electrostatic Surface Patterning of Dow Cyclotene by N₂ Plasma

D.-Q. Yang, Suzie Poulin, Ludvik Martinu, Jolanta-Ewa Sapieha, O. Zabeida et Edward Sacher

Article de revue (2005)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/23530/
Titre de la revue:	Applied Surface Science (vol. 242, no 3-4)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/j.apsusc.2004.09.077
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.09.077
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:08

Citer en APA 7:	Yang, D.-Q., Poulin, S., Martinu, L., Sapieha, J.-E., Zabeida, O., & Sacher, E. (2005). Microscale Chemical and Electrostatic Surface Patterning of Dow Cyclotene by N₂ Plasma. Applied Surface Science, 242(3-4), 419-427. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.09.077
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