Interface broadening due to ion mixing during thin film growth at the radio-frequency-biased electrode in a plasma-enhanced chemical vapor deposition environment

A. Amassian, Martin Švec, Patrick Desjardins, Ludvik Martinu

Article de revue (2006)

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Titre de la revue :
Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films ( vol. 24 , no 6 )
Maison d'édition:
American Vacuum Society
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:23452
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:17
Dernière modification:
14 oct. 2026 12:57
Citer en APA 7:
Amassian, A., Švec, M., Desjardins, P., & Martinu, L. (2006). Interface broadening due to ion mixing during thin film growth at the radio-frequency-biased electrode in a plasma-enhanced chemical vapor deposition environment. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 24(6), 2061-2069. https://doi.org/10.1116/1.2348642

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