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Ion bombardment-induced enhancement of the properties of indium tin oxide films prepared by plasma-assisted reactive magnetron sputtering

M. Dudek, A. Amassian, O. Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu

Article de revue (2009)

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Département: Département de génie physique
Centre de recherche: RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/19682/
Titre de la revue: Thin Solid Films (vol. 517, no 16)
Maison d'édition: Elsevier
DOI: 10.1016/j.tsf.2009.01.012
URL officielle: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2009.01.012
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:14
Dernière modification: 27 sept. 2024 11:27
Citer en APA 7: Dudek, M., Amassian, A., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2009). Ion bombardment-induced enhancement of the properties of indium tin oxide films prepared by plasma-assisted reactive magnetron sputtering. Thin Solid Films, 517(16), 4576-4582. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2009.01.012

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