Ion bombardment-induced enhancement of the properties of indium tin oxide films prepared by plasma-assisted reactive magnetron sputtering

Mariusz Dudek, Aram Amassian, Oleg Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha, Ludvik Martinu

Article de revue (2009)

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Département:
Département de génie physique
Unité de recherche:
RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe
Adresse URL de PolyPublie:
https://publications.polymtl.ca/19682/
Titre de la revue :
Thin Solid Films ( vol. 517 , no 16 )
Maison d'édition:
Elsevier
DOI:
10.1016/j.tsf.2009.01.012
URL officielle:
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2009.01.012
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:19682
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:14
Dernière modification:
14 oct. 2026 11:23
Citer en APA 7:
Dudek, M., Amassian, A., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2009). Ion bombardment-induced enhancement of the properties of indium tin oxide films prepared by plasma-assisted reactive magnetron sputtering. Thin Solid Films, 517(16), 4576-4582. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2009.01.012

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