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Electronic structure and electrical transport in ternary Al-Mg-B films prepared by magnetron sputtering

C. Yan, S. K. Jha, J. C. Qian, Z. F. Zhou, B. He, T. W. Ng, K. Y. Li, W. J. Zhang, I. Bello, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu

Article de revue (2013)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/12936/
Titre de la revue: Applied Physics Letters (vol. 102, no 12)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.4795298
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.4795298
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:10
Dernière modification: 25 sept. 2024 15:49
Citer en APA 7: Yan, C., Jha, S. K., Qian, J. C., Zhou, Z. F., He, B., Ng, T. W., Li, K. Y., Zhang, W. J., Bello, I., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2013). Electronic structure and electrical transport in ternary Al-Mg-B films prepared by magnetron sputtering. Applied Physics Letters, 102(12), 122110-1-122110-4. https://doi.org/10.1063/1.4795298

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