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Documents dont l'auteur est "Lafontaine, H."

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D

Diawara, Y., Lafontaine, H., Chaker, M., Kieffer, J. C., Pépin, H., Cochrane, R. W., Currie, J. F., Haghiri-Gosnet, A.-M., Ravet, M. F., & Rousseaux, F. (1993). Rapid thermal annealing for reducing stress in tungsten x-ray mask absorber. Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena, 11(2), 296-300. Lien externe

M

Mouton, A., Sundararaman, C. S., Lafontaine, H., Poulin, S., & Currie, J. F. (1990). Etching of InP by H₃PO₄, H₂O₂ Solutions. Japanese Journal of Applied Physics, 29(10R), 1912-1913. Lien externe

S

Sundararaman, C. S., Lafontaine, H., Poulin, S., Mouton, A., & Currie, J. F. (1991). Reactive sputtering of InP in N₂ and N₂/O₂ plasmas. Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena, 9(3), 1433-1439. Lien externe

Liste produite: Tue Sep 22 07:31:10 2026 EDT.