Chetlur S. Sundararaman, H. Lafontaine, S. Poulin, Andre Mouton, John F. Currie
Article de revue (1991)
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Titre de la revue
:
Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena
(
vol.
9
,
no
3
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:70927
ORCID
Date du dépôt:
18 déc. 2025 15:41
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:31
Citer en APA 7:
Sundararaman, C. S., Lafontaine, H., Poulin, S., Mouton, A., & Currie, J. F. (1991). Reactive sputtering of InP in N₂ and N₂/O₂ plasmas. Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena, 9(3), 1433-1439. https://doi.org/10.1116/1.585446
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