Y. Diawara, H. Lafontaine, Mohamed Chaker, J. C. Kieffer, H. Pépin, R. W. Cochrane, John F. Currie, Anne-Marie Haghiri-Gosnet, M. F. Ravet, F. Rousseaux
Article de revue (1993)
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Titre de la revue
:
Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena
(
vol.
11
,
no
2
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:82250
ORCID
Date du dépôt:
15 sept. 2026 15:37
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:47
Citer en APA 7:
Diawara, Y., Lafontaine, H., Chaker, M., Kieffer, J. C., Pépin, H., Cochrane, R. W., Currie, J. F., Haghiri-Gosnet, A.-M., Ravet, M. F., & Rousseaux, F. (1993). Rapid thermal annealing for reducing stress in tungsten x-ray mask absorber. Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena, 11(2), 296-300. https://doi.org/10.1116/1.586673
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