Etching of InP by H₃PO₄, H₂O₂ Solutions

A. Mouton, Chetlur S. Sundararaman, H. Lafontaine, S. Poulin, John F. Currie

Article de revue (1990)

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Titre de la revue :
Japanese Journal of Applied Physics ( vol. 29 , no 10R )
Maison d'édition:
Institute of Physics
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:69941
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Date du dépôt:
20 nov. 2025 15:52
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:31
Citer en APA 7:
Mouton, A., Sundararaman, C. S., Lafontaine, H., Poulin, S., & Currie, J. F. (1990). Etching of InP by H₃PO₄, H₂O₂ Solutions. Japanese Journal of Applied Physics, 29(10R), 1912-1913. https://doi.org/10.1143/jjap.29.1912

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