Dépôt de composés inorganiques du Si par plasma CVD sur substrats polymériques : caractérisation structurale et fonctionnelle

Argemiro Soares Da Silva Sobrinho

Thèse de doctorat (1999)

Document en libre accès dans PolyPublie

Affichage préliminaire

Libre accès au plein texte de ce document Version officielle de l'éditeur Conditions d'utilisation: Tous droits réservés Télécharger (13MB)

Afficher le résumé

Cacher le résumé

Renseignements supplémentaires:	Le fichier PDF de ce document a été produit par Bibliothèque et Archives Canada selon les termes du programme Thèses Canada https://canada.on.worldcat.org/oclc/1017532374
Département:	Département de génie physique
Directeurs ou directrices:	Michael R. Wertheimer
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/8647/
Université/École:	École Polytechnique de Montréal
Date du dépôt:	04 août 2021 11:05
Dernière modification:	30 sept. 2024 13:54

Citer en APA 7:	Da Silva Sobrinho, A. S. (1999). Dépôt de composés inorganiques du Si par plasma CVD sur substrats polymériques : caractérisation structurale et fonctionnelle [Thèse de doctorat, École Polytechnique de Montréal]. PolyPublie. https://publications.polymtl.ca/8647/
APA 7 (HTML)ASCII CitationAtomBibTeXDOIsDublin CoreEndNote (.ENW)MARC (ISO 2709/UTF-8) (.MRC)MARC (UTF-8) (.MRK8)MARC XMLMPEG-21 DIDLMultiline CSVOAI-ORE Resource Map (Atom Format)OPENAIREOpenURL ContextObjectOpenURL ContextObject in SpanRDF+N-TriplesRDF+N3RDF+XMLReferReference Manager (.RIS)Répertoire des publications (EndNote)Simple Metadata

Statistiques

Total des téléchargements à partir de PolyPublie

Téléchargements par année

Provenance des téléchargements

Actions réservées au personnel

Afficher document