Strain Stability in Nanoscale Patterned Strained Silicon-on-Insulator

Oussama Moutanabbir, Manfred Reiche, Angelika Hähnel, Wilfred Erfurth, Masashi Motohashi, Alvarado Tarun, Norihiko Hayazawa, Satoshi Kawata, Falk Naumann, M. Pätzold, Martin V. Holt et J. Mäser

Article de revue (2010)

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URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/74559/
Titre de la revue:	ECS Meeting Abstracts (vol. MA2010-02, no 30)
Maison d'édition:	Institute of Physics
DOI:	10.1149/ma2010-02/30/1907
URL officielle:	https://doi.org/10.1149/ma2010-02/30/1907
Date du dépôt:	30 juil. 2026 15:16
Dernière modification:	30 juil. 2026 15:16

Citer en APA 7:	Moutanabbir, O., Reiche, M., Hähnel, A., Erfurth, W., Motohashi, M., Tarun, A., Hayazawa, N., Kawata, S., Naumann, F., Pätzold, M., Holt, M. V., & Mäser, J. (2010). Strain Stability in Nanoscale Patterned Strained Silicon-on-Insulator. ECS Meeting Abstracts, MA2010-02(30), 1907 (1 page). https://doi.org/10.1149/ma2010-02/30/1907
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