Angelika Hähnel, Manfred Reiche, Oussama Moutanabbir
, Horst Blumtritt, Holm Geisler, Jan Hoentschel, Hans-Jürgen Engelmann
Article de revue (2011)
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Titre de la revue
:
Physica status solidi. C, Conferences and critical reviews/Physica status solidi. C, Current topics in solid state physics
(
vol.
8
,
no
4
)
Maison d'édition:
Wiley
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:74538
ORCID
Date du dépôt:
30 juil. 2026 14:54
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:36
Citer en APA 7:
Hähnel, A., Reiche, M., Moutanabbir, O., Blumtritt, H., Geisler, H., Hoentschel, J., & Engelmann, H.-J. (2011). Nano‐beam electron diffraction evaluation of strain behaviour in nano‐scale patterned strained silicon‐on‐insulator. Physica status solidi. C, Conferences and critical reviews/Physica status solidi. C, Current topics in solid state physics, 8(4), 1319-1324. https://doi.org/10.1002/pssc.201084007
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