Nano‐beam electron diffraction evaluation of strain behaviour in nano‐scale patterned strained silicon‐on‐insulator

Angelika Hähnel, Manfred Reiche, Oussama Moutanabbir, Horst Blumtritt, Holm Geisler, Jan Hoentschel et Hans-Jürgen Engelmann

Article de revue (2011)

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URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/74538/
Titre de la revue:	Physica status solidi. C, Conferences and critical reviews/Physica status solidi. C, Current topics in solid state physics (vol. 8, no 4)
Maison d'édition:	Wiley
DOI:	10.1002/pssc.201084007
URL officielle:	https://doi.org/10.1002/pssc.201084007
Date du dépôt:	30 juil. 2026 14:54
Dernière modification:	30 juil. 2026 14:54

Citer en APA 7:

Hähnel, A., Reiche, M., Moutanabbir, O., Blumtritt, H., Geisler, H., Hoentschel, J., & Engelmann, H.-J. (2011). Nano‐beam electron diffraction evaluation of strain behaviour in nano‐scale patterned strained silicon‐on‐insulator. Physica status solidi. C, Conferences and critical reviews/Physica status solidi. C, Current topics in solid state physics, 8(4), 1319-1324. https://doi.org/10.1002/pssc.201084007

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