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GeSn: Insights from Nanoscale Materials and Devices

Lu Luo, David Vlassov, M. R. M. Atalla, Simone Assali, Cédric Lemieux-Leduc, Ziqiang Cai, Sebastian Koelling, Gérard Tanguy Eric Gnato Daligou et Oussama Moutanabbir

Communication écrite (2025)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/72417/
Nom de la conférence: 10th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-X), the International Conference on Silicon Epitaxy and International SiGe Technology and Device Meeting (ICSI/ISTDM 2025)
Lieu de la conférence: Yokohama-shi, Kanagawa, Japan
Date(s) de la conférence: 2025-11-10 - 2025-11-13
Date du dépôt: 10 févr. 2026 08:56
Dernière modification: 10 févr. 2026 09:13
Citer en APA 7: Luo, L., Vlassov, D., Atalla, M. R. M., Assali, S., Lemieux-Leduc, C., Cai, Z., Koelling, S., Daligou, G. T. E. G., & Moutanabbir, O. (novembre 2025). GeSn: Insights from Nanoscale Materials and Devices [Communication écrite]. 10th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-X), the International Conference on Silicon Epitaxy and International SiGe Technology and Device Meeting (ICSI/ISTDM 2025), Yokohama-shi, Kanagawa, Japan.

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