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Characterization of a two-dimensional hole gas in a GeSn quantum well system

Prateek Kaul, Jan Karthein, Jonas Buchhorn, Taizo Kawano, Taisei Usubuchi, Jun Ishihara, Nicolas Rotaru, Patrick Del Vecchio, Omar Concepción Díaz, Detlev Grützmacher, Qing-Tai Zhao, Oussama Moutanabbir, Makoto Kohda, Thomas Schäpers et Dan Mihai Buca

Communication écrite (2025)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/72412/
Nom de la conférence: 10th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-X), the International Conference on Silicon Epitaxy and International SiGe Technology and Device Meeting (ICSI/ISTDM 2025)
Lieu de la conférence: Yokohama-shi, Kanagawa, Japan
Date(s) de la conférence: 2025-11-10 - 2025-11-13
Date du dépôt: 10 févr. 2026 09:10
Dernière modification: 10 févr. 2026 09:13
Citer en APA 7: Kaul, P., Karthein, J., Buchhorn, J., Kawano, T., Usubuchi, T., Ishihara, J., Rotaru, N., Del Vecchio, P., Concepción Díaz, O., Grützmacher, D., Zhao, Q.-T., Moutanabbir, O., Kohda, M., Schäpers, T., & Buca, D. M. (novembre 2025). Characterization of a two-dimensional hole gas in a GeSn quantum well system [Communication écrite]. 10th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-X), the International Conference on Silicon Epitaxy and International SiGe Technology and Device Meeting (ICSI/ISTDM 2025), Yokohama-shi, Kanagawa, Japan.

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