Luis Bernardo Varela, Pedro Renato Tavares Avila, Aleksandar Miletić, Étienne Bousser, Jaén Motta Méndez, Jolanta-Ewa Sapieha
, Ludvik Martinu
Article de revue (2024)
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Titre de la revue
:
Journal of Vacuum Science & Technology A
(
vol.
42
,
no
4
)
Maison d'édition:
AIP Publishing
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:58694
ORCID
Date du dépôt:
26 juin 2024 12:51
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:19
Citer en APA 7:
Varela, L. B., Tavares Avila, P. R., Miletić, A., Bousser, É., Méndez, J. M., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2024). Residual stress depth profiles self-developed in cathodic arc deposited Ti-Al-N coatings prepared at different constant substrate bias values. Journal of Vacuum Science & Technology A, 42(4), 043104 (22 pages). https://doi.org/10.1116/6.0003555
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