Residual stress depth profiles self-developed in cathodic arc deposited Ti-Al-N coatings prepared at different constant substrate bias values

L. B. Varela, Pedro Renato Tavares Avila, Aleksandar Miletic, Etienne Bousser, J. M. Mendez, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu

Article de revue (2024)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/58694/
Titre de la revue:	Journal of Vacuum Science & Technology A (vol. 42, no 4)
Maison d'édition:	AIP Publishing
DOI:	10.1116/6.0003555
URL officielle:	https://doi.org/10.1116/6.0003555
Date du dépôt:	26 juin 2024 12:51
Dernière modification:	24 oct. 2024 12:26

Citer en APA 7:	Varela, L. B., Tavares Avila, P. R., Miletic, A., Bousser, E., Mendez, J. M., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2024). Residual stress depth profiles self-developed in cathodic arc deposited Ti-Al-N coatings prepared at different constant substrate bias values. Journal of Vacuum Science & Technology A, 42(4), 043104 (22 pages). https://doi.org/10.1116/6.0003555
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