Reactive HiPIMS deposition of SiO₂/Ta₂O₅ optical interference filters

M. Hala, R. Vernhes, O. Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu

Article de revue (2014)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/41948/
Titre de la revue:	Journal of Applied Physics (vol. 116, no 21)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1063/1.4903285
URL officielle:	https://doi.org/10.1063/1.4903285
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:08
Dernière modification:	25 sept. 2024 16:28

Citer en APA 7:	Hala, M., Vernhes, R., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2014). Reactive HiPIMS deposition of SiO₂/Ta₂O₅ optical interference filters. Journal of Applied Physics, 116(21), 213302-213302. https://doi.org/10.1063/1.4903285
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