S. Loquai, O. Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu
Article de revue (2016)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/36208/ |
Titre de la revue: | Applied Physics Letters (vol. 109, no 11) |
Maison d'édition: | AIP - American Institute of Physics |
DOI: | 10.1063/1.4962486 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.4962486 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:05 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:20 |
Citer en APA 7: | Loquai, S., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2016). Flash post-discharge emission in a reactive HiPIMS process. Applied Physics Letters, 109(11), 5 pages. https://doi.org/10.1063/1.4962486 |
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