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Flash post-discharge emission in a reactive HiPIMS process

S. Loquai, O. Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu

Article de revue (2016)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/36208/
Titre de la revue: Applied Physics Letters (vol. 109, no 11)
Maison d'édition: AIP - American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.4962486
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.4962486
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:05
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:29
Citer en APA 7: Loquai, S., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2016). Flash post-discharge emission in a reactive HiPIMS process. Applied Physics Letters, 109(11), 5 pages. https://doi.org/10.1063/1.4962486

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