Gérald Gagnon, John F. Currie, G. Beique, J. L. Brebner, S. C. Gujrathi et L. Ouellet
Article de revue (1994)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de métallurgie et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/33292/ |
| Titre de la revue: | Journal of Applied Physics (vol. 75, no 3) |
| Maison d'édition: | American Institute of Physics |
| DOI: | 10.1063/1.356392 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.356392 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:25 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:15 |
| Citer en APA 7: | Gagnon, G., Currie, J. F., Beique, G., Brebner, J. L., Gujrathi, S. C., & Ouellet, L. (1994). Characterization of reactively evaporated TiN layers for diffusion barrier applications. Journal of Applied Physics, 75(3), 1565-1570. https://doi.org/10.1063/1.356392 |
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