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Sputtered silicate-limit NASICON thin films for electrochemical sensors

Dentcho Ivanov, John F. Currie, H. Bouchard, A. Lecours, J. Andrian, Arthur Yelon et Suzie Poulin

Article de revue (1994)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/33199/
Titre de la revue: Solid State Ionics (vol. 67, no 3-4)
Maison d'édition: Elsevier
DOI: 10.1016/0167-2738(94)90020-5
URL officielle: https://doi.org/10.1016/0167-2738%2894%2990020-5
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:25
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:15
Citer en APA 7: Ivanov, D., Currie, J. F., Bouchard, H., Lecours, A., Andrian, J., Yelon, A., & Poulin, S. (1994). Sputtered silicate-limit NASICON thin films for electrochemical sensors. Solid State Ionics, 67(3-4), 295-299. https://doi.org/10.1016/0167-2738%2894%2990020-5

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