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Documents dont l'auteur est "Bouchard, H."

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B

Bouchard, H., Azelmad, A., Currie, J. F., Meunier, M., Blain, S., & Darwall, T. (avril 1993). Thermal Stress in Doped Silicate Glasses (B,P) Deposited by PECVD and LPCVD [Communication écrite]. 1993 MRS Spring Meeting, San Francisco, CA. Publié dans MRS Proceedings, 308. Lien externe

Bouchard, H., Azelmad, A., Currie, J. F., & Meunier, M. (1992). Variation de la contrainte des verres de silice sous cycle thermique. [Variations of the stress of silicon glass during annealing]. Canadian Journal of Physics, 70(10-11), 830-833. Lien externe

I

Ivanov, D., Currie, J. F., Bouchard, H., Lecours, A., Andrian, J., Yelon, A., & Poulin, S. (1994). Sputtered silicate-limit NASICON thin films for electrochemical sensors. Solid State Ionics, 67(3-4), 295-299. Lien externe

Liste produite: Thu Nov 21 03:43:22 2024 EST.