R. Berriche, P. Leroux et Ludvik Martinu
Communication écrite (1995)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/32567/ |
| Nom de la conférence: | International Symposium on Advanced Ceramics for Structural and Tribological Applications |
| Lieu de la conférence: | Vancouver, BC, CAN |
| Date(s) de la conférence: | 1995-08-20 - 1995-08-24 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:24 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:23 |
| Citer en APA 7: | Berriche, R., Leroux, P., & Martinu, L. (août 1995). Evaluation of adhesion of thin films of Si₃N₄ and SiO₂ to si by the scratch method [Communication écrite]. International Symposium on Advanced Ceramics for Structural and Tribological Applications, Vancouver, BC, CAN. |
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