Pulsed laser deposition of NASICON thin films

Izquierdo, R.; Hanus, F.; Lang, Th.; Ivanov, Dentcho; Meunier, Michel; Laude, L.; Currie, John F.; Yelon, Arthur; Izquierdo, R.; Hanus, F.; Lang, Th.; Ivanov, Dentcho; Meunier, Michel; Laude, L.; Currie, John F.; Yelon, Arthur

Pulsed laser deposition of NASICON thin films

R. Izquierdo, F. Hanus, Th. Lang, Dentcho Ivanov, Michel Meunier , L. Laude, John F. Currie, Arthur Yelon

Article de revue (1996)

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Département:

Département de génie physique

Unité de recherche:

GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/31208/

Titre de la revue :

Applied Surface Science ( vol. 96-98 )

Maison d'édition:

Elsevier

DOI:

10.1016/0169-4332(95)00566-8

URL officielle:

https://doi.org/10.1016/0169-4332%2895%2900566-8

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:31208

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:24

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:18

Citer en APA 7:

Izquierdo, R., Hanus, F., Lang, T., Ivanov, D., Meunier, M., Laude, L., Currie, J. F., & Yelon, A. (1996). Pulsed laser deposition of NASICON thin films. Applied Surface Science, 96-98, 855-858. https://doi.org/10.1016/0169-4332%2895%2900566-8

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