Effect of capture and escape phenomena in Monte Carlo technique on the simulation of the nonlinear characteristics in high electron mobility transistors

Michel Abou Khalil, Dominique Schreurs, Bart Nauwelaers, M. Van Rossum, Romain Maciejko, Ke Wu

Article de revue (1997)

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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie électrique et de génie informatique
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Titre de la revue :
Journal of Applied Physics ( vol. 82 , no 12 )
Maison d'édition:
American Institute of Physics
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:30739
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:23
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:17
Citer en APA 7:
Abou Khalil, M., Schreurs, D., Nauwelaers, B., Van Rossum, M., Maciejko, R., & Wu, K. (1997). Effect of capture and escape phenomena in Monte Carlo technique on the simulation of the nonlinear characteristics in high electron mobility transistors. Journal of Applied Physics, 82(12), 6312-6318. https://doi.org/10.1063/1.366521

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