N. Bertrand, B. Drevillon, A. Gheorghiu, C. Senemaud, Ludvik Martinu et Jolanta-Ewa Sapieha
Article de revue (1998)
Un lien externe est disponible pour ce documentRenseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
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Département: | Département de génie physique |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/29841/ |
Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 16, no 1) |
Maison d'édition: | American Vacuum Society |
DOI: | 10.1116/1.581013 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.581013 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:11 |
Citer en APA 7: | Bertrand, N., Drevillon, B., Gheorghiu, A., Senemaud, C., Martinu, L., & Sapieha, J.-E. (1998). Adhesion improvement of plasma-deposited silica thin films on stainless steel substrate studied by x-ray photoemission spectroscopy and in situ infrared ellipsometry. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 16(1), 6-12. https://doi.org/10.1116/1.581013 |
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