Quantitative compositional depth profiling of Si₁₋ₓ₋yGeₓCy thin films by simultaneous elastic recoil detection and Rutherford backscattering spectrometry

S. C. Gujrathi, S. Roorda, J. G. D'Arcy, R. L. Pflueger, Patrick Desjardins, I. Petrov, J. E. Greene

Article de revue (1998)

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Titre de la revue :
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B, Beam Interactions With Materials and Atoms ( vol. 136-138 )
Maison d'édition:
Elsevier
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:29633
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:23
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:07
Citer en APA 7:
Gujrathi, S. C., Roorda, S., D'Arcy, J. G., Pflueger, R. L., Desjardins, P., Petrov, I., & Greene, J. E. (1998). Quantitative compositional depth profiling of Si₁₋ₓ₋yGeₓCy thin films by simultaneous elastic recoil detection and Rutherford backscattering spectrometry. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B, Beam Interactions With Materials and Atoms, 136-138, 654-660. https://doi.org/10.1016/s0168-583x%2897%2900881-1

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