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Quantitative compositional depth profiling of Si₁₋ₓ₋yGeₓCy thin films by simultaneous elastic recoil detection and Rutherford backscattering spectrometry

S. C. Gujrathi, S. Roorda, J. G. D'Arcy, R. L. Pflueger, Patrick Desjardins, I. Petrov et J. E. Greene

Article de revue (1998)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/29633/
Titre de la revue: Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B, Beam Interactions With Materials and Atoms (vol. 136-138)
Maison d'édition: Elsevier
DOI: 10.1016/s0168-583x(97)00881-1
URL officielle: https://doi.org/10.1016/s0168-583x%2897%2900881-1
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:23
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:18
Citer en APA 7: Gujrathi, S. C., Roorda, S., D'Arcy, J. G., Pflueger, R. L., Desjardins, P., Petrov, I., & Greene, J. E. (1998). Quantitative compositional depth profiling of Si₁₋ₓ₋yGeₓCy thin films by simultaneous elastic recoil detection and Rutherford backscattering spectrometry. Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B, Beam Interactions With Materials and Atoms, 136-138, 654-660. https://doi.org/10.1016/s0168-583x%2897%2900881-1

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