D. Popovici, K. Piyakis, Michel Meunier
, Edward Sacher
Article de revue (1998)
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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:
Unité de recherche:
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue
:
Journal of Applied Physics
(
vol.
83
,
no
1
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:29404
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:23
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:06
Citer en APA 7:
Popovici, D., Piyakis, K., Meunier, M., & Sacher, E. (1998). Angle-resolved x-ray photoelectron spectroscopy comparison of copper/Teflon AF1600 and aluminum/Kapton metal diffusion. Journal of Applied Physics, 83(1), 108-111. https://doi.org/10.1063/1.366706
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