D. Popovici, K. Piyakis, Michel Meunier
et Edward Sacher
Article de revue (1998)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/29404/ |
| Titre de la revue: | Journal of Applied Physics (vol. 83, no 1) |
| Maison d'édition: | American Institute of Physics |
| DOI: | 10.1063/1.366706 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.366706 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:23 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:10 |
| Citer en APA 7: | Popovici, D., Piyakis, K., Meunier, M., & Sacher, E. (1998). Angle-resolved x-ray photoelectron spectroscopy comparison of copper/Teflon AF1600 and aluminum/Kapton metal diffusion. Journal of Applied Physics, 83(1), 108-111. https://doi.org/10.1063/1.366706 |
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