V. Hajek, K. Rusnak, J. Vlček, Ludvik Martinu
, S. C. Gujrathi
Article de revue (1999)
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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:
Unité de recherche:
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue
:
Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films
(
vol.
17
,
no
3
)
Maison d'édition:
American Vacuum Society
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:28911
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:06
Citer en APA 7:
Hajek, V., Rusnak, K., Vlček, J., Martinu, L., & Gujrathi, S. C. (1999). Influence of substrate bias voltage on the properties of CNₓ films prepared by reactive magnetron sputtering. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 17(3), 899-908. https://doi.org/10.1116/1.581662
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