V. Hajek, K. Rusnak, J. Vlcek, Ludvik Martinu
et S. C. Gujrathi
Article de revue (1999)
Un lien externe est disponible pour ce document
| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/28911/ |
| Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 17, no 3) |
| Maison d'édition: | American Vacuum Society |
| DOI: | 10.1116/1.581662 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.581662 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:10 |
| Citer en APA 7: | Hajek, V., Rusnak, K., Vlcek, J., Martinu, L., & Gujrathi, S. C. (1999). Influence of substrate bias voltage on the properties of CNₓ films prepared by reactive magnetron sputtering. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 17(3), 899-908. https://doi.org/10.1116/1.581662 |
|---|---|
Statistiques
Dimensions
Actions réservées au personnel
|
Afficher document |
