Role of fast sputtered particles during sputter deposition: growth of epitaxial Ge0.99C0.01/Ge(001)

J. D'Arcy-Gall, D. Gall, Patrick Desjardins, I. Petrov

Article de revue (2000)

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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
Physical review. B, Condensed matter ( vol. 62 , no 16 )
Maison d'édition:
American Physical Society
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:28247
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:21
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:04
Citer en APA 7:
D'Arcy-Gall, J., Gall, D., Desjardins, P., & Petrov, I. (2000). Role of fast sputtered particles during sputter deposition: growth of epitaxial Ge0.99C0.01/Ge(001). Physical review. B, Condensed matter, 62(16), 11203-11208. https://doi.org/10.1103/physrevb.62.11203

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