Role of fast sputtered particles during sputter deposition: growth of epitaxial Ge0.99C0.01/Ge(001)

J. D'Arcy-Gall, D. Gall, Patrick Desjardins et I. Petrov

Article de revue (2000)

Un lien externe est disponible pour ce document

Renseignements supplémentaires:	Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/28247/
Titre de la revue:	Physical review. B, Condensed matter (vol. 62, no 16)
Maison d'édition:	American Physical Society
DOI:	10.1103/physrevb.62.11203
URL officielle:	https://doi.org/10.1103/physrevb.62.11203
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:21
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:16

Citer en APA 7:	D'Arcy-Gall, J., Gall, D., Desjardins, P., & Petrov, I. (2000). Role of fast sputtered particles during sputter deposition: growth of epitaxial Ge0.99C0.01/Ge(001). Physical review. B, Condensed matter, 62(16), 11203-11208. https://doi.org/10.1103/physrevb.62.11203
APA 7 (HTML)ASCII CitationAtomBibTeXDOIsDublin CoreEndNote (.ENW)MARC (ISO 2709/UTF-8) (.MRC)MARC (UTF-8) (.MRK8)MARC XMLMPEG-21 DIDLMultiline CSVOAI-ORE Resource Map (Atom Format)OPENAIREOpenURL ContextObjectOpenURL ContextObject in SpanRDF+N-TriplesRDF+N3RDF+XMLReferReference Manager (.RIS)Répertoire des publications (EndNote)Simple Metadata

Statistiques

Actions réservées au personnel