A. Hallil, O. Zabeida, Michael R. Wertheimer et Ludvik Martinu
Article de revue (2000)
Un lien externe est disponible pour ce documentRenseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
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Département: | Département de génie physique |
Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/28134/ |
Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 18, no 3) |
Maison d'édition: | American Vacuum Society |
DOI: | 10.1116/1.582271 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.582271 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:21 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:09 |
Citer en APA 7: | Hallil, A., Zabeida, O., Wertheimer, M. R., & Martinu, L. (2000). Mass-Resolved Ion Energy Distributions in Continuous Dual Mode Microwave/Radio Frequency Plasmas in Argon and Nitrogen. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 18(3), 882-890. https://doi.org/10.1116/1.582271 |
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