Characterization of ion bombardment and optical emission spectroscopy in magnetron discharges for reactive sputtering of hard carbon nitride films

J. Vlcek, K. Rusnak, V. Hajek, Ludvik Martinu

Résumé (2000)

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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Adresse URL de PolyPublie:
Nom de la conférence:
International Symposium on Trends and Applications of Thin Films (TATF 2000)
Lieu de la conférence:
Nancy, France
Date(s) de la conférence:
2000-03-28
Titre de la revue :
Vide ( vol. 54 , no 295 SUP1/4 )
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:27759
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:03
Citer en APA 7:
Vlcek, J., Rusnak, K., Hajek, V., & Martinu, L. (mars 2000). Characterization of ion bombardment and optical emission spectroscopy in magnetron discharges for reactive sputtering of hard carbon nitride films [Résumé]. International Symposium on Trends and Applications of Thin Films (TATF 2000), Nancy, France. Publié dans Vide, 54(295 SUP1/4).

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