Characterization of ion bombardment and optical emission spectroscopy in magnetron discharges for reactive sputtering of hard carbon nitride films

J. Vlcek, K. Rusnak, V. Hajek et Ludvik Martinu

Résumé (2000)

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Renseignements supplémentaires:	Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/27759/
Nom de la conférence:	International Symposium on Trends and Applications of Thin Films (TATF 2000)
Lieu de la conférence:	Nancy, France
Date(s) de la conférence:	2000-03-28
Titre de la revue:	Vide (vol. 54, no 295 SUP1/4)
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:15

Citer en APA 7:	Vlcek, J., Rusnak, K., Hajek, V., & Martinu, L. (mars 2000). Characterization of ion bombardment and optical emission spectroscopy in magnetron discharges for reactive sputtering of hard carbon nitride films [Résumé]. International Symposium on Trends and Applications of Thin Films (TATF 2000), Nancy, France. Publié dans Vide, 54(295 SUP1/4).
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