J. Vlcek, K. Rusnak, V. Hajek et Ludvik Martinu
Résumé (2000)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/27759/ |
| Nom de la conférence: | International Symposium on Trends and Applications of Thin Films (TATF 2000) |
| Lieu de la conférence: | Nancy, France |
| Date(s) de la conférence: | 2000-03-28 |
| Titre de la revue: | Vide (vol. 54, no 295 SUP1/4) |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:22 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:08 |
| Citer en APA 7: | Vlcek, J., Rusnak, K., Hajek, V., & Martinu, L. (mars 2000). Characterization of ion bombardment and optical emission spectroscopy in magnetron discharges for reactive sputtering of hard carbon nitride films [Résumé]. International Symposium on Trends and Applications of Thin Films (TATF 2000), Nancy, France. Publié dans Vide, 54(295 SUP1/4). |
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