New Approach to Understanding the Reactive Magnetron Sputtering of Hard Carbon Nitride Films

J. Vlček, K. Rusnak, V. Hajek, Ludvik Martinu

Article de revue (2000)

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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
Diamond and Related Materials ( vol. 9 , no 3-6 )
Maison d'édition:
Elsevier
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:27758
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:22
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:03
Citer en APA 7:
Vlček, J., Rusnak, K., Hajek, V., & Martinu, L. (2000). New Approach to Understanding the Reactive Magnetron Sputtering of Hard Carbon Nitride Films. Diamond and Related Materials, 9(3-6), 582-586. https://doi.org/10.1016/s0925-9635%2899%2900350-7

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