Michel Meunier
, Maxime Cadotte, Mathieu Ducharme, Yves Gagnon, Alain Lacourse
Communication écrite (2002)
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Département:
ISBN:
081944376X
Adresse URL de PolyPublie:
Nom de la conférence:
Photon Processing in Microelectronics and Photonics
Lieu de la conférence:
San Jose, Ca., USA
Date(s) de la conférence:
2002-01-21 - 2002-01-24
Maison d'édition:
SPIE - International Society for Optical Engineering
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:26426
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:20
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:01
Citer en APA 7:
Meunier, M., Cadotte, M., Ducharme, M., Gagnon, Y., & Lacourse, A. (janvier 2002). Laser induced diffusible resistance: device characterization and process modeling [Communication écrite]. Photon Processing in Microelectronics and Photonics, San Jose, Ca., USA. https://doi.org/10.1117/12.470672
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