Laser induced diffusible resistance: device characterization and process modeling

Michel Meunier, M. Cadotte, M. Ducharme, Y. Gagnon et A. Lacourse

Communication écrite (2002)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/26426/
Nom de la conférence:	Photon Processing in Microelectronics and Photonics
Lieu de la conférence:	San Jose, Ca., USA
Date(s) de la conférence:	2002-01-21 - 2002-01-24
Maison d'édition:	SPIE - International Society for Optical Engineering
DOI:	10.1117/12.470672
URL officielle:	https://doi.org/10.1117/12.470672
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:20
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:13

Citer en APA 7:	Meunier, M., Cadotte, M., Ducharme, M., Gagnon, Y., & Lacourse, A. (janvier 2002). Laser induced diffusible resistance: device characterization and process modeling [Communication écrite]. Photon Processing in Microelectronics and Photonics, San Jose, Ca., USA. https://doi.org/10.1117/12.470672
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