Michel Meunier
, Maxime Cadotte, Mathieu Ducharme, Yves Gagnon et Alain Lacourse
Communication écrite (2002)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| ISBN: | 081944376X |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/26426/ |
| Nom de la conférence: | Photon Processing in Microelectronics and Photonics |
| Lieu de la conférence: | San Jose, Ca., USA |
| Date(s) de la conférence: | 2002-01-21 - 2002-01-24 |
| Maison d'édition: | SPIE - International Society for Optical Engineering |
| DOI: | 10.1117/12.470672 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1117/12.470672 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:20 |
| Dernière modification: | 08 avr. 2025 02:15 |
| Citer en APA 7: | Meunier, M., Cadotte, M., Ducharme, M., Gagnon, Y., & Lacourse, A. (janvier 2002). Laser induced diffusible resistance: device characterization and process modeling [Communication écrite]. Photon Processing in Microelectronics and Photonics, San Jose, Ca., USA. https://doi.org/10.1117/12.470672 |
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