Sn-enhanced epitaxial thickness during low-temperature Ge(001) molecular beam epitaxy

K. A. Bratland, Y. L. Foo, Patrick Desjardins, J. E. Greene

Article de revue (2003)

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Titre de la revue :
Applied Physics Letters ( vol. 82 , no 24 )
Maison d'édition:
American Institute of Physics
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:26058
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:01
Citer en APA 7:
Bratland, K. A., Foo, Y. L., Desjardins, P., & Greene, J. E. (2003). Sn-enhanced epitaxial thickness during low-temperature Ge(001) molecular beam epitaxy. Applied Physics Letters, 82(24), 4247-4247. https://doi.org/10.1063/1.1578712

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