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Electron beam induced deposition of rhodium from the precursor [RhCl(PF3)2]2: Morphology, structure and chemical composition

Fabio Cicoira, K. Leifer, P. Hoffmann, I. Utke, B. Dwir, D. Laub, P. A. Buffat, E. Kapon et P. Doppelt

Article de revue (2004)

Document publié alors que les auteurs ou autrices n'étaient pas affiliés à Polytechnique Montréal

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URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/25146/
Titre de la revue: Journal of Crystal Growth (vol. 265, no 3-4)
Maison d'édition: Elsevier
DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2004.02.006
URL officielle: https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2004.02.006
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:19
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:05
Citer en APA 7: Cicoira, F., Leifer, K., Hoffmann, P., Utke, I., Dwir, B., Laub, D., Buffat, P. A., Kapon, E., & Doppelt, P. (2004). Electron beam induced deposition of rhodium from the precursor [RhCl(PF3)2]2: Morphology, structure and chemical composition. Journal of Crystal Growth, 265(3-4), 619-626. https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2004.02.006

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