Richard Vernhes, Oleg Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha
, Ludvik Martinu
Article de revue (2006)
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Titre de la revue
:
Journal of Applied Physics
(
vol.
100
,
no
6
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:22410
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:18
Dernière modification:
14 oct. 2026 12:55
Citer en APA 7:
Vernhes, R., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2006). Pulsed radio frequency plasma deposition of a-SiNₓ:H alloys: film properties, growth mechanism, and applications. Journal of Applied Physics, 100(6), 63308-1. https://doi.org/10.1063/1.2349565
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