<  Retour au portail Polytechnique Montréal

Pulsed radio frequency plasma deposition of a-SiNₓ:H alloys: film properties, growth mechanism, and applications

R. Vernhes, O. Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu

Article de revue (2006)

Un lien externe est disponible pour ce document
Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/22410/
Titre de la revue: Journal of Applied Physics (vol. 100, no 6)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.2349565
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.2349565
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:18
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:06
Citer en APA 7: Vernhes, R., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2006). Pulsed radio frequency plasma deposition of a-SiNₓ:H alloys: film properties, growth mechanism, and applications. Journal of Applied Physics, 100(6), 63308-1. https://doi.org/10.1063/1.2349565

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document Afficher document